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規(guī)劃地塊擬建建筑日照分析
時(shí)間:2014-04-27 16:07:41 作者:本站編輯 來(lái)源:綠建之窗 閱讀:3812內(nèi)容摘要:規(guī)劃地塊的日照分析4.4.1為維護(hù)相鄰地塊的開(kāi)發(fā)權(quán)益,擬建建筑周邊為尚未進(jìn)入實(shí)施階段但己編制詳細(xì)規(guī)劃的規(guī)劃地塊時(shí),應(yīng)進(jìn)行模擬日照分析。4.4.2擬建建筑北側(cè)的規(guī)劃用地屬日照分析對(duì)象時(shí),應(yīng)對(duì)規(guī)劃地塊做等時(shí)線分析,其標(biāo)準(zhǔn)的日照等時(shí)線不應(yīng)超越當(dāng)?shù)匾?guī)劃管理部門(mén)要求的滿足日1曜嫉墓婊控制...規(guī)劃地塊的日照分析4.4.1 為維護(hù)相鄰地塊的開(kāi)發(fā)權(quán)益,擬建建筑周邊為尚未進(jìn)入實(shí)施階段但己編制詳細(xì)規(guī)劃的規(guī)劃地塊時(shí),應(yīng)進(jìn)行模擬日照分析。
4.4.2 擬建建筑北側(cè)的規(guī)劃用地屬日照分析對(duì)象時(shí),應(yīng)對(duì)規(guī)劃地塊做等時(shí)線分析,其標(biāo)準(zhǔn)的日照等時(shí)線不應(yīng)超越當(dāng)?shù)匾?guī)劃管理部門(mén)要求的滿足日照標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)劃控制線。
4.4.3 擬建建筑為日照分析對(duì)象,且其南側(cè)為規(guī)\x00高層地塊時(shí),應(yīng)對(duì)規(guī)劃地塊按控制性詳細(xì)規(guī)劃要求做模擬方案,并作為遮擋建筑對(duì)擬建建筑進(jìn)行日照分析。
4.4.4 擬建日照分析對(duì)象的東、西兩側(cè)為規(guī)劃高層地塊時(shí),應(yīng)對(duì)規(guī)劃地塊按控制性詳細(xì)規(guī)劃要求做模擬方案,作為遮擋建筑\x00擬建建筑進(jìn)行日照分析;規(guī)劃高層地塊為日照分析對(duì)象時(shí),應(yīng)對(duì)其模擬方案進(jìn)行外輪廓沿線分析。
4.4.5 被遮擋的規(guī)劃地塊和受模擬建筑影響的被遮擋建筑的日照分析結(jié)果,僅供規(guī)劃管理部門(mén)參考。當(dāng)規(guī)劃地塊實(shí)施時(shí),應(yīng)重新進(jìn)行\(zhòng)x00照分析。
規(guī)劃地塊的日照分析條紋規(guī)定
4.4.1 在規(guī)劃管理中,先建地塊占用相鄰的后建地塊的日照資源,從而影響其土地使用效益的現(xiàn)象比較普遍。為盡可能地避免相鄰地塊因開(kāi)發(fā)建設(shè)時(shí)序不同而造成的日照資源、土地開(kāi)發(fā)強(qiáng)度的分配不公,作本條規(guī)定。
4.4.2 根據(jù)各地的規(guī)劃管理技術(shù)規(guī)定確定規(guī)劃地塊應(yīng)滿足日照標(biāo)準(zhǔn)要求的規(guī)劃控制線的退界距離,如果相嬡照氈曜嫉牡仁畢呶闖過(guò)北側(cè)日照要求控制線,則北側(cè)規(guī)劃地塊建筑在不考慮自身遮擋的情況下能滿足日照要求。
4.4.3 南側(cè)為規(guī)劃高層地塊應(yīng)根據(jù)各地的規(guī)劃管理技術(shù)規(guī)定確定模擬方案參與分析,保障其規(guī)劃的開(kāi)發(fā)強(qiáng)度.
4.4.4 東西兩側(cè)為規(guī)劃高層地塊,由于擬建和規(guī)劃建筑兩者相互影響,模擬方案較為復(fù)雜,應(yīng)根據(jù)各地的規(guī)劃管理技術(shù)規(guī)定合理布置。
4.4.5 本條規(guī)定主要是從以下兩個(gè)方面考慮:
1 、規(guī)劃地塊的日照分析結(jié)果達(dá)不到規(guī)劃審批的深度要求;
2 、模擬建筑的總平位置、平面設(shè)計(jì)和建筑高度存在很大的不確定性。
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